삼성전자, EUV 전용 화성 ‘V1 라인’ 본격가동

삼성전자가 화성사업장에 반도체 미래를 이끌 최첨단 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 전용 라인인 ‘V1 라인’을 본격적으로 가동하고 ‘반도체 비전 2030’ 달성에 나섰습니다

삼성전자는 ‘V1 라인’에서 초미세 EUV공정 기반 7나노부터 혁신적인 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 계획입니다.

삼성전자는 최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(Fabless, 반도체 회로 설계) 기업과 협력을 추진하며 모바일부터 HPC(High Performance Computing) 분야까지 파운드리 영역을 확대해 나가고 있습니다.

2020년까지 누적 투자 금액은 약 60억불 수준이며, V1 라인 가동으로 2020년 말 기준 7나노 이하 제품의 생산 규모는 2019년 대비 약 3배 이상 확대될 것으로 예상됩니다.

이는 급증하는 정보를 처리할 수 있는 고성능 저전력 반도체를 만드는데 필수적인 기술입니다.

또한 EUV 노광 기술을 적용하면 회로를 새기는 작업을 반복하는 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 공정을 줄일 수 있어 성능과 수율이 향상되고, 제품 출시 기간을 단축할 수 있는 장점이 있습니다.

삼성전자는 2019.4월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 SoC 제품을 출하한데 이어, 2019년 하반기부터는 6나노 제품 양산을 시작했습니다.

5나노 공정은 2019년 하반기 제품 설계를 완료했으며, 4나노 공정은 2020년 상반기 공정 개발을 완료하고 하반기에 제품 설계도 마칠 계획입니다.

※ 삼성전자 파운드리 EUV 기반 공정 현황

7나노 : 2019년 상반기 양산 시작

6나노 : 2019년 하반기 양산 시작

5나노 : 2019년 하반기 제품설계 완료

4나노 : 2020년 상반기 공정 개발 완료

‘SAFE(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)’는 삼성 파운드리와 에코시스템 파트너, 그리고 고객 사이의 협력을 강화하여, 뛰어난 제품을 효과적으로 설계할 수 있도록 돕는 프로그램입니다.

고객사가 복잡한 반도체 칩 설계의 어려움을 극복하고, 보다 쉽게 설계 검증을 할 수 있도록 자동화 설계 툴과 설계 방법론을 제공하고 있습니다.

삼성전자의 다양한 파운드리 설계 자산(IP, 라이브러리)에 대한 접근성을 높여, 고객 및 파트너사들이 보다 쉽고 빠르게 설계를 할 수 있도록 지원하고 있습니다.

또한, 국내 중소 팹리스 업체의 개발 활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer) 프로그램을 공정당 년 3~4회로 확대 운영함으로써 더 많은 기회를 제공하고자 노력하고 있습니다.