삼성전자 건강연구소, 한국산업위생학회(KSOEH) 2014 하계 학술대회에 참가하다!

2014년 상반기는 여러 사고가 이어져 많은 이들의 마음을 안타깝게 했습니다. 한편으로는 사회 전반의 안전불감증에 대해 돌아보고, 생활 속에서 마주할 수 있는 위험 요소에 대한 경각심을 다시 일깨우는 계기가 되기도 했는데요. 이와 함께 산업현장에서 근무하는 근로자들의 건강과 안전에 대한 중요성도 다시 한 번 강조되고 있습니다.

지난 13일부터 4일간 산업위생에 대한 연구를 공유하고 토론하는 자리인 ‘한국산업위생학회 2014 하계 학술대회가’ 열렸습니다. 서울대학교에서 열린 이번 학술대회에는 산업위생/보건 전문가가 참석해 최근 연구 내용을 발표하고, 안전한 근무환경을 만들기 위한 열띤 토론을 벌였는데요.

특히 삼성전자 건강연구소는 작년에 이어 한국산업위생학회 학술대회에 참가해 우수논문 수상과 연구 논문을 발표를 통해 전문가들의 주목을 받았습니다.

■ 삼성전자 건강연구소, 우수 논문상 수상

한국산업위생학회(KSOEH, Korean Society of Occupational and Environmental Hygiene)는 우리나라 산업위생학 발전과 근로자의 건강보호, 회원들의 역량 향상 등을 목적으로 1990년 창립된 학회입니다. 학술대회가 본격적으로 시작되자 강당 안에 많은 국내 산업위생/보건 분야 전문가들이 모였는데요.

박동욱 한국산업위생학회 회장은 “처음 산업위생 분야에 들어섰을 때, 이 분야에 100명 정도만 전문가가 있으면 좋겠다고 생각했는데, 지금은 정말 많은 전문가가 활동하고 있어 기쁘다”며, “앞으로도 근로자의 건강을 지키기위해 노력해 달라”라고 당부의 말을 전했습니다.

이번 2014 하계학술대회는 “산안법, 화평법, 화관법 상의 화학물질 관리”와 “한국사회 위험과 바람직한 국가 안전관리 시스템”이라는 두 가지 주제로 개최됐습니다. 특히 일상 생활이나 산업 현장에서 사용되는 화학물질에 대해 잠재적 위험 요소와 유해성에 대한 지속적인 연구가 필요한데요.

이 날 학회에서 건강연구소 신규식 연구원의 연구 결과는 우수 논문상에 선정되며, 산업위생/보건 분야 전문가들에게 많은 주목을 받았습니다. 이번에 수상한 연구는 작년 학회에서 발표했던 내용으로, “반도체 포토공정에 발생하는 화학물질 및 부산물 확인”에 대한 연구인데요, 이어지는 포스터 발표 현장에서 이 연구에 대한 후속 연구 내용이 공유됐습니다.

포스터 발표 현장에서도 연구 내용에 대한 뜨거운 관심이 이어졌습니다. 우수 논문상을 수상한 신규식 연구원의 연구와 함께 정현희 연구원의 연구 내용이 함께 발표됐습니다.

정현희 연구원은 “반도체 사용 시너의 구성 성분에 관한 연구”라는 주제로, 반도체 공정에서 사용되고 있는 시너에 대해 정성분석을 진행해 세부 구성 성분에 대한 유해성 확인 결과를 발표했습니다.

또한 신규식 연구원은 우수 논문상을 수상한 연구의 후속 연구인 “반도체 포토공정에서 발생하는 화학물질 및 부산물 확인Ⅱ”에 대한 결과를 발표했습니다. 이번 연구는 화학물질 구성성분과 공정 부산물을 확인해 보건관점에서 유해물질 발생 가능성에 대한 결과를 공유했는데요, 신규식 연구원을 만나 이번 연구에 대한 보다 자세한 이야기를 들어봤습니다.

삼성전자 건강연구소 신규식 연구원

“삼성전자 건강연구소에서는 매년 주요 연구결과를 대내외적으로 발표하고 있습니다. 이러한 활동을 통해 많은 전문가들과 함께 공유하며 더욱 발전적인 방향을 논의하고 있습니다.

이번 연구를 통해 포토공정에서 발생하는 화학물질 및 부산물에 대해 유해 성분이 없다는 사실을 확인했습니다. 이번 연구는 잠재적 위험요소에 대한 불확실성 해소 측면에서 그 의의가 있다고 생각합니다.

앞으로도 임직원들의 건강 증진과 근무환경에 대한 신뢰도를 더욱 높일 수 있도록 많은 연구 활동을 이어 가겠습니다.”

지금까지 산업보건 분야 전문가들이 한 자리에 모인 한국산업위생학회의 현장과 삼성전자 건강연구소의 연구 활동을 소개해 드렸습니다. 더 안전한 근무환경을 위해 연구를 거듭하는 삼성전자 건강연구소의 활약! 앞으로도 기대해주세요~

☞ 삼성전자 건강연구소, 한국산업위생학회(KSOEH) 춘계 학술대회 참가