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‘#초미세 유전막 형성 기술’ 에 대한 태그 검색결과
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삼성전자, 세계 최초 ’20나노 4기가비트 D램’ 양산
삼성전자가 이 달부터 세계 최초로 차세대 ’20나노(1나노 : 10억분의 1미터) 4기가비트(Giga bit) DDR3(Double Data Rate 3) D램’을 본격 양산하기 시작했습니다. 20나노 D램은 2012년 삼성전자가 세계 최초로 양산한 25나노...
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