[카드뉴스] 5나노의 벽을 넘은 EUV 기반 초미세 파운드리 공정 기술 리더십
[카드뉴스] 5나노의 벽을 넘은 EUV 기반 초미세 파운드리 공정 기술 리더십
삼성전자는 지난해 화성캠퍼스에 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 라인을 건설을 시작하며 최첨단 반도체 미세공정 기술 리더십 확보에 나섰는데요.
7나노부터 최근 개발이 완료된 5나노 공정까지, EUV 노광 기술을 적용한 초미세 파운드리 공정 성과를 카드뉴스로 확인하세요.
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