하나의 반도체를 완성하기 위해서는 수많은 팀이 각자의 자리에서 힘을 보탠다.

여기 같은 목표를 향해 달려왔지만, 오늘 처음으로 마주한 두 사람이 있다. 포토공정 설비 엔지니어 최진혁 님과 메탈공정 공정 엔지니어 이수민 님이다. 서로의 직무에 대한 막연한 기대부터 실제 업무 이야기, 그리고 반도체 엔지니어로서 닮은 마음가짐까지! 두 사람이 처음 나눈 솔직한 이야기를 영상에서 확인해 보자.

The post [인사이드 더 블루 Ep.4] 서로 다른 길을 걷지만, 같은 목표를 향하는 두 엔지니어의 첫 만남! first appeared on 삼성전자 반도체 뉴스룸.

한밤중 갑작스러운 통증이 찾아온 경우 응급실의 존재는 더할 나위 없이 소중하다. 병원에 응급실이 있다면 삼성전자 반도체에는 24시간 관리 업무를 담당하는 메모리 Photo 기술팀이 있다. 팀의 일원인 김민주 님은 포토공정 설비 데이터를 실시간 모니터링하고, 문제가 발생한 경우 현장에 내려간다. 삼성전자 화성캠퍼스의 불 꺼지지 않는 응급 현장, 위 영상에서 확인해 보자. 

the블루아워, the 블루 아워

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1. 포토공정(노광공정, Photo Lithography)이 무엇인지부터.

반도체 공정하면 가장 먼저 주목을 받는 키워드 중 하나는 포토 공정(노광공정, Photo Lithography) 입니다. EUV도 이 포토 공정을 위한 기술이기 때문에 EUV를 잘 이해하기 위해서 먼저 포토 공정에 대해 파헤쳐 보도록 하겠습니다.

A. 조각을 위한 밑 그림 포토공정.

조각이나 재단을 위해 우리가 가장 먼저 하는 것은 바로 밑그림을 그리기 입니다. 원하는 곳을 정확하게 자르거나 파기 위해 미리 그림을 그려 놓는 것이죠. 포토 공정의 목적은 이 밑그림 그리기와 같습니다. 반도체 공정은 쌓고 깎는 활동의 반복이라고 할 수 있는데, 포토 공정을 통해 우리가 깎고자 하는 곳에 밑그림을 그려 놓는 것입니다.

B. 밑 그림을 찍는다 찰칵

실 생활에서 우리는 밑그림을 그릴 때 보통 팬과 같은 도구를 이용하여 그려 넣습니다. 하지만 포토 공정은 그 이름에 걸맞게 빛으로 필름에 장면을 찍어내는 사진의 방식으로 진행됩니다. [그림1] 처럼 빛을 이용하는 것이죠.

그리고 싶은 모양을 얇은 판으로 제작하고 그 판을 통해 빛을 막거나 투과 시켜 원하는 곳에 밑그림을 현상 시키는 것이죠. 여기서 사용하는 얇은 판을 우리는 마스크 혹은 Reticle이라고 부릅니다.

그러나 종이에 빛을 비춰 그림자를 만든다고 그 그림자가 종이에 그림처럼 새겨지지는 않습니다. 들어온 빛을 그림처럼 남기려면 사진에서의 필름 역할을 할 무언가가 필요하죠. 포토공정에서 빛을 비추기 전 도포하는 PR(Photo Resist,감광액)이 바로 그런 역할을 하게 됩니다. PR은 빛에 반응해 성질이 변화하는 감광액의 일종인데요. 그림[2]처럼 깎고 싶은 물질 위에 PR을 도포한 후 마스크를 통과한 빛을 비추면 빛을 받은 영역의 PR과 받지 않은 영역의 PR간의 성질 차이가 생기게 됩니다. 그리고 이렇게 생긴 성질 차이를 이용해 PR의 두 영역 중 필요한 영역만을 남기고 제거하는 Develop과정을 거치게 됩니다. 최종적으로 마스크에 새겨진 모양이 PR로 남겨지게 되게 되는 것이죠. 이 일련의 과정을 마스크의 모양(Pattern)을 깎고자 하는 물질 위에 현상한다고 해서 패터닝(Patterning) 이라고 합니다.

패터닝을 한 후에는 물질을 깎는 공정인 식각(Etch) 공정을 진행하게 됩니다. 이때 전면을 동시에 깎아내게 되는데 PR이 남아있는 부위는 PR로 인해 하부가 깎이지 않고 남게 되어 원하던 밑그림을 완성하게 됩니다.

지금까지 포토 공정의 기본 역할과 원리에 대하여 설명 드렸습니다. 이렇게 보면 포토공정은 마스크를 통해 빛을 비춰 주기만 하면 되는 간단한 공정처럼 보이는데요. 반도체 산업에서 포토공정의 발전은 어떤 이유로 큰 주목을 받고 있는 것일까요?

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2. 포토 공정 발전은 왜 필요 한가?

공정의 미세화, 즉 보다 작은 트랜지스터를 사용한 반도체를 생산하기위해 우리는 많은 요소에서 한계를 극복해 나가고 있습니다. 그 중 하나가 바로 포토 공정이죠. 그렇다면 포토 공정이 마주하는 장애물은 무엇일까요?

A. 패터닝을 방해하는 빛의 회절과 간섭

빛이 좁은 틈을 지날 때 본래의 진행방향과 다르게 넓게 퍼지는 특성인 회절과, 두개의 빛 파동이 만나 서로 보강되거나 상쇄되는 특성인 간섭은 포토공정의 패터닝을 방해하는 가장 큰 장애물입니다.

그림[3]와 같이 빛은 회절 하는 성질에 따라 좁은 틈을 통과 할 때 직진하지 못하고 그 틈을 중심으로 부채꼴 모양 파동이 되어 퍼져나가게 됩니다. 회절은 틈이 좁거나 파장의 길이가 길수록 더 넓게 퍼지게 하는 특징이 있죠.

더욱이 그림[4]처럼 두개 이상의 틈을 지나며 회절 된 빛은 퍼져나가며 서로 간섭 현상을 일으키게 되는데요. 그림[4]의 (a)처럼 파장 대비 틈의 폭과 틈 간 간격이 충분히 넓다면 문제가 되지 않겠지만, (b)처럼 그 폭이 좁아지고 또 틈과 틈이 가까워진다면 원하는 모양을 PR에 정확하게 현상 할 수 없게 됩니다. 즉 그리고자 하는 밑그림의 선이 얇아지고(틈이 좁고), 빼곡할 수록(틈 간 간격이 좁을수록) 정확하게 그려내기 어려워 진다는 말이죠.

공정 기술의 발전과 함께 트랜지스터의 크기는 점점 작아지고 있습니다. 이에 따라 포토공정이 그려야 하는 선의 폭은 좁아지고, 밀도는 올라가고 있죠. 이는 곧 포토공정의 난이도가 점점 올라가고 있다는 것을 말해 줍니다.

그렇다면 우리는 어떻게 포토 공정이 마주한 이러한 한계점들을 어떻게 극복해 왔을까요?

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3. 조금 돌아 가더라도 목적지에 정확히 도달하자!

포토 공정이 마주한 한계점을 극복하는 방법은 여러가지가 있습니다. 우리는 그중 빛의 회절, 간섭과 관련된 문제점을 간접적으로 극복한 몇가지 사례를 알아 보겠습니다.

A. Multi Patterning Technology – 한번에 그리기 어려우면 두개로 나눠 그리자!

좁은 길을 지나가다 다른 사람과 어깨를 부딪힌 경험이 있으신가요? 각자 조금씩 떨어져 걸었다면 이런 충돌을 피할 수 있었을 것입니다. 빛들이 서로 간섭현상을 일으키는 문제를 해결한 방법도 이와 유사하게 진행되었습니다. 틈 사이 간격을 더 넓혀 빛과 빛 사이의 간섭을 줄이게 만드는 것이죠. 그림[5] (a)처럼 한번에 패터닝하던 좁은 간격의 네 개 틈을 (b)와 (c)로 두 개씩 두 번에 나누어 패터닝을 진행하면서 각 틈 사이의 간격을 넓히고 간섭을 줄이는 것입니다.

이러한 방식을 여러 번 패터닝한다고 하여 Multi Patterning Technology라고 합니다.

B. OPC – 작게 찍히면 크게 만들고, 크게 찍히면 작게 만들자!

양궁에서 과녁을 맞출 때 정가운데를 조준하였지만 다른 곳으로 화살이 날아간다면 우리는 다음 화살을 방향이 틀어진 만큼 반대 방향으로 조준해서 활시위를 당깁니다. 즉, 오차를 고려하여 재계산하는 것이죠. 패터닝시에도 이와 유사하게 오차가 발생했을 때 이를 반영하여 마스크를 만드는 방법을 사용합니다. 바로 OPC(Optical Proximity Correction)입니다. 그림[6]의 과정처럼 결과물로부터 피드백을 받아 마스크를 일부러 왜곡되게 제작하는 방법을 말하죠.

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4. 직접적 해결을 위한 노력.

이외에도 우리는 빛의 성질로 인한 포토공정의 한계를 다양한 방법으로 극복해 왔습니다. 하지만 결국 작아진 Pattern에서 빛의 성질로 인해 발생되는 문제의 근본적인 해결책은 빛의 파장을 줄이는 방법입니다(그림[3] 참조). 따라서 우리는 파장을 줄이기 위해서도 꾸준히 노력을 이어가고 있는데요. 다음 포스트에서 이러한 포토 공정의 발전에 따른 파장 변화 과정과 함께, 최근 가장 주목받고 있는 EUV는 어떤 특징을 가지고 있는지에 대하여 알아보겠습니다.

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‘여기가 회사가 맞나요?’ 호텔 남부럽지 않은 조식부터, 개인 피아노 연습까지!

오늘의 S로그 주인공 김선화 님은 이번 에피소드를 통해 삼성전자 반도체 기흥캠퍼스 기숙사의 매력을 낱낱이 공개했습니다. 틈이 날 때 친한 동료와 함께 스포츠존에서 배드민턴도 즐기고, 소 공연장 개인 연습실에서 피아노 실력을 뽐낼 수 있는 이곳. 숨겨왔던 끼를 마음껏 발산할 수 있는 곳입니다.

POST FAB팀에서 엔지니어로 근무하고 선화 님은 인간 OHT의 모습을 보여주며, 포토 공정 설비 점검에 능숙한 모습을 보여주기도 했는데요. 이른 DAY 근무 이후에는 감성 가득한 시를 쓰면서 마음을 정리하기도 했습니다.

2022년 S로그의 마지막 주자, 감성 가득한 선화 님의 모습이 궁금하다면 영상을 통해 지금 바로 확인해보세요!

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완벽한 반도체 제조를 위해 꼭 필요한 것, 공정 중 나노 미터 크기의 파티클(먼지) 한 톨도 들어가지 않게 관리하는 일입니다. 삼성전자 반도체와 함께 일하고 있는 회사 ‘FST’는 반도체 제조 공정 중에서도 포토 공정에 사용되는 마스크를 파티클로부터 보호하는 ‘펠리클(투명한 필름)’을 제조하는 국내 유일의 업체입니다. 이렇게 중요한 펠리클의 수율을 확보하기 위해 삼성전자 반도체에서 31년째 파티클 제어를 담당해 온 전문가 김진성 님이 나섰습니다. FST의 품질 경영을 지원하는 자문단으로 참여한 것인데요.

‘내일도 함께 애쓰지(ESG)’ 세 번째 에피소드에서는 FST의 펠리클 품질 담당자로 구성된 PDS(Pellicle Defect Solution)팀과 김진성님의 협력을 통한 수율 개선 활동을 소개합니다. 이들의 유일한 목표는 바로 먼지 단 한 톨도 허용하지 않는 ‘파티클 Free’! 새로운 길을 개척하는 과정에서 시행착오도 있었지만, 과학적인 데이터를 바탕으로 철저한 현장 분석을 거듭한 결과 높은 수율에 도달하는데 성공했습니다.

한편, 김진성 님은 FST가 이러한 활동을 계속해나갈 수 있도록 전담 조직을 구성해 유지할 것을 제안하기도 했는데요. 과연 그 결과는 어떠했을까요? 영상으로 함께 확인해 볼까요?

The post [내일도 함께 애쓰지(ESG) Ep.3] 국내 유일의 펠리클 업체 FST, 완벽한 품질을 위해 삼성전자 반도체와 함께 한 활동은? (a.k.a 먼지박사) first appeared on 삼성전자 반도체 뉴스룸.

사내 연애? 아니, 사내 부부!

S로그 역대 최초 부부 동반 출연의 주인공은 반도체연구소 차세대공정개발팀의 안은영 님과 메모리M기술팀의 박진혁 님입니다.

남편과 함께 하는 오붓한 출근길. 달달하게 회사에 도착한 후에는 미래 반도체 기술을 연구하는 개발자 모드로 업무에 몰입하는 은영 님. 바쁜 업무 중간중간 사내에서 즐기는 데이트 코스와 휴식이 필요할 때 찾아가는 자신만의 비밀 장소를 소개했는데요. 마지막으로 사내 부부의 장단점까지 모두 공개한 은영, 진혁 님의 결론은 과연… 사내 결혼 추천일까요? 영상으로 함께 확인해 보세요!

The post [S로그 Ep.13] 일과 사랑, 둘 다 잡은 사내 부부 엔지니어의 일상 최초 공개! first appeared on 삼성전자 반도체 뉴스룸.

기록하고 싶은 순간을 만났을 때 우리는 사진을 찍습니다. 소중한 추억을 저장할 있는 가장 쉽고도 확실한 방법인데요. 반도체 제품을 생산하는 여러 공정 중에도 이처럼 사진을 찍는 과정이 존재합니다. 마치 사진을 촬영하고 인화하는 것처럼, 웨이퍼에 빛으로 원하는 패턴을 새기는 ‘포토 공정’이 바로 그것! 특히 포토 공정은 반도체 칩의 완성도와 성능을 결정하는 핵심적인 부분이라는 사실.

점점 더 작아지는 전자 기기 크기에 맞춰 반도체 칩 역시 계속 작아지고, 그 집적도는 더욱 높아져 반도체 회로가 더욱 미세하게 진화하고 있는데요. 반도체 칩에 한 땀 한 땀 미세한 회로 패턴을 그려내려면? 첨단 기술 노하우는 물론, 현장에서 쌓아온 ‘짬바’ 가득한 장인의 숨결이 필요합니다.

이렇게 난이도가 높고 복잡한 포토 공정의 원리를 쉽게 설명하기 위해, 20년 간 포토 공정에 몸담아 온 전문가가 ‘인생맛칩’을 위해 특별히 칠판 앞에 섰습니다. 한 번 들으면 바로 이해되는 족집게 강의를 들려줬다고 하는데요.

삼성전자 반도체의 특별한 기술력에 화룡점정을 찍는 ‘EUV 스캐너’부터 미래 반도체 산업을 이끌어갈 후배들을 향한 진심어린 조언까지, 반도체의 ‘맛있는’ 핵심을 낱낱이 파헤치는 ‘인생맛칩 Ep.5’ 영상에서 특별한 강연을 만나볼까요?

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지난 시간에 산화공정과 집적회로에 대해 소개해드렸는데요. 이번에는 웨이퍼 위에 반도체 회로를 그려 넣는 포토공정(Photo)에 대해 알아보려 합니다. 포토공정은 필름카메라로 사진을 찍는 원리와 비슷한데요. 어떻게 비슷한 지 알아볼까요?

흑백사진 인화와 비슷한 포토공정

흔히 포토 리소그래피(Photo Lithography)를 줄여서 포토공정(Photo)이라고 하는데요. 이 공정은 웨이퍼 위에 회로 패턴이 담긴 마스크 상을 빛을 이용해 비춰 회로를 그리기 때문에 붙여진 이름입니다. 여기서 패턴을 형성하는 방법은 흑백 사진을 만들 때 필름에 형성된 상을 인화지에 인화하는 것과 유사합니다.

반도체는 집적도가 증가할수록 칩을 구성하는 단위 소자 역시 미세 공정을 사용해 작게 만들어야 하는데요. 미세 회로 패턴 구현 역시 전적으로 포토 공정에 의해 결정되기 때문에 집적도가 높아질수록 포토 공정 기술 또한 세심하고 높은 수준의 기술을 요하게 됩니다.

웨이퍼에 회로 패턴을 만드는 준비 단계

그럼 본격적으로 포토공정이 어떻게 이루어지는지 알아볼까요? 먼저 컴퓨터 시스템(CAD, computer-aided design)을 이용해 웨이퍼에 그려 넣을 회로를 설계합니다. 전자회로 패턴(Pattern)으로 설계되는 이 도면에 엔지니어들이 설계한 정밀회로를 담으며, 그 정밀도가 반도체의 집적도를 결정합니다.

사진 원판의 역할을 하는 포토마스크 만들기

설계된 회로 패턴(Pattern)은 순도가 높은 석영(Quartz)을 가공해서 만든 기판 위에 크롬(Cr)으로 미세 회로를 형상화해 포토마스크(Photo Mask)로 재탄생 하게 됩니다. 마스크(Mask)는 Reticle이라고도 부르는데, 이것은 회로 패턴을 고스란히 담은 필름으로 사진 원판의 기능을 하게 되는데요. 마스크는 보다 세밀한 패터닝(Patterning)을 위해 반도체 회로보다 크게 제작되며, 렌즈를 이용 빛을 축소해 조사하게 됩니다.

포토공정은 감광액 도포, 노광, 현상의 세부 공정으로 다시 나뉩니다. 포토공정을 더 자세히 알아볼까요?

본격 포토공정, 웨이퍼를 인화지로 만드는 감광액 도포

이제 웨이퍼에 그림을 그릴 준비가 됐습니다. 다음 단계는 웨이퍼 표면에 빛에 민감한 물질인 감광액(PR, Photo Resist)을 골고루 바르는 작업인데요. 이 작업이 사진을 현상하는 것과 같이 웨이퍼를 인화지로 만들어줍니다. 보다 고품질의 미세한 회로 패턴을 얻기 위해서는 감광액(PR) 막이 얇고 균일해야 하며 빛에 대한 감도가 높아야 하죠.

빛을 통해 웨이퍼에 회로를 그려 넣는 노광

감광액(PR) 막을 형성해 웨이퍼를 사진 인화지와 비슷한 상태로 만든 후에는 노광장비(Stepper)를 사용해 회로 패턴이 담긴 마스크에 빛을 통과시켜 웨이퍼에 회로를 찍어냅니다. 이 과정을 노광(Stepper Exposure)이라고 하는데요. 반도체 공정에서의 노광은 빛을 선택적으로 조사하는 과정을 말합니다.

회로 패턴을 형성하는 현상 공정

포토공정(Photo)의 마지막 단계는 현상(Develop)으로 일반 사진을 현상하는 과정과 동일합니다. 이 과정에서 패턴의 형상이 결정되기 때문에 매우 중요한데요. 현상(Develop) 공정은 웨이퍼에 현상액을 뿌려 가며 노광된 영역과 노광 되지 않은 영역을 선택적으로 제거해 회로 패턴을 형성하는 공정입니다.

웨이퍼 위에 균일하게 입혀진 감광액(PR)은 빛에 어떻게 반응하는가에 따라 양성(positive) 혹은 음성(negative)로 분류됩니다. 양성 감광액의 경우 노광 되지 않은 영역을 남기고 음성 감광액의 경우 노광된 영역만 남겨 사용하게 되는데요.

현상 공정까지 마치게 되면 모든 포토공정이 끝나는데요. 각종 측정 장비와 광학 현미경 등을 통해 패턴이 잘 그려졌는지 꼼꼼하게 검사한 후, 이를 통과한 웨이퍼만이 다음 공정 단계로 이동합니다.

지금까지 웨이퍼 표면에 세밀한 회로 패턴을 찍는 포토공정에 대해 알아보았는데요. 다음 시간에는 웨이퍼에 회로 패턴을 만들기 위해 필요한 부분을 남기고, 필요 없는 부분을 선택적으로 깎아내는 식각공정에 대해 소개하겠습니다.

The post [반도체 8대 공정] 4탄, 웨이퍼에 회로를 그려 넣는 포토공정 first appeared on 삼성전자 반도체 뉴스룸.

요즘에는 많은 사람이 디지털 카메라를 사용하고 있지만, 불과 수년 전만해도 소풍이나 여행을 가면 빠짐없이 등장했던 카메라가 있습니다. 바로 아날로그 향수가 물씬 풍기는 필름 카메라인데요,

반도체 공정 중 웨이퍼에 회로를 그리는 포토공정(Photo)은 우리가 흔히 알고 있는 필름 카메라로 사진을 찍어 현상하는 방법과 동일합니다. 그럼, 어떻게 비슷한 지 한 번 알아볼까요?

■ 설계와 마스크 제작: 웨이퍼에 그려 넣을 회로 패턴을 만드는 준비 단계
우선, 컴퓨터 시스템(CAD, computer-aided design)을 이용해 웨이퍼에 그려 넣을 회로를 설계합니다. 전자회로 패턴(Pattern)으로 설계되는 이 도면은 50~100m 정도의 큰 크기로 제작 되는데요, 어마어마한 도면에 세밀한 회로가 복잡하게 그려집니다. 도면상 회로가 제대로 연결되었는지 확인하기 위해서는 실제로 도면을 바닥에 펴 놓고 사람이 그 위에 올라가 눈으로 직접 검사를 할 정도니 그 크기와 세밀함이 엄청나죠?

도면 검사까지 마친 회로 패턴(Pattern)은 E-Beam이라 일컫는 설비를 통해 순도가 높은 석영을 가공해서 만든 유리판 위에 그려져 MASK(Reticle)로 다시 탄생하게 됩니다. 포토 마스크(Photo Mask)라고도 하는 이것은 회로 패턴이 고스란히 담긴 네거티브 필름으로 사진용 원판의 구실을 하게 됩니다.

그렇다면, 이 마스크를 웨이퍼보다 크게 만드는 이유는 무엇일까요?

반도체의 회로는 아주 미세하여 작은 먼지 한 톨도 허용되지 않기 때문입니다. 회로 패턴이 담긴 마스크는 축소 촬영법으로 1개의 칩에 회로를 새겨 넣고, 그 후 반복축소 촬영으로 웨이퍼의 전면을 주사합니다. 여기서 만약, 웨이퍼와 같은 크기의 마스크를 사용한다면, 마스크에 있던 먼지 크기 그대로 웨이퍼에 노광되어 웨이퍼가 오작동을 일으키게 됩니다. 그래서, 마스크는 웨이퍼보다 크게 만들어 먼지 크기도 함께 축소될 수 있도록 하는 것입니다.

이제 웨이퍼 위에 그림을 그릴 준비가 다 되었습니다.

■ 포토 공정: 사진 인쇄 기술로 웨이퍼에 회로를 현상
흔히 포토 리소그래피(Photo Lithography)를 줄여서 포토공정(Photo)이라고 하는데요, 이 공정은 빛을 사용하여 회로 패턴이 담긴 마스크 상을 비춰 웨이퍼 위에 회로를 그리기 때문에 붙여진 이름입니다. 패턴을 형성하는 방법은 흑백 사진을 만들 때 필름에 형성된 상을 인화지에 인화하는 것과 같다고 볼 수 있습니다.

특히, 반도체는 집적기술인 만큼 집적도가 증가할수록 칩을 구성하는 단위 소자 역시 미세 패턴을 사용하여 작게 만드는 것이 중요합니다. 이 때, 미세 회로 패턴 구현은 전적으로 포토 공정에 의해 결정되기 때문에, 집적도가 높아질수록 포토 공정 기술 또한 세심하고 높은 수준의 기술을 요하게 됩니다.

그렇다면, 본격적으로 포토공정(Photo)에 대해 알아볼까요?

1) 웨이퍼를 인화지로 만들어 주는 감광액 도포

웨이퍼 표면에 빛에 민감한 물질인 감광액(PR, Photo Resist)을 골고루 바릅니다. 웨이퍼 위에 균일하게 입혀진 감광액(PR)은 빛에 어떻게 반응하는가에 따라 양성(positive) 혹은 음성(negative)로 분류 되는데요, 양성 감광액의 경우 현상공정을 통해 노광된 영역이 제거되고, 음성 감광액의 경우 노광된 영역만 남게 되어 원하는 패턴을 그릴 수 있게 됩니다.

보다 고품질의 미세한 회로 패턴을 얻기 위해서는 감광액(PR)막이 얇고 균일해야하며, 빛에 해당하는 자외선에 대한 감도가 높아야 합니다.

2) 카메라 셔터를 여는 노광
감광액(PR)막이 형성된 웨이퍼를 사진 인화지와 비슷한 상태로 만들었다면, 노광장비를 사용하여 회로 패턴이 담긴 마스크에 빛을 통과시켜 웨이퍼에 회로를 그려 넣게 되는데, 이 과정을 노광(Stepper Exposure)이라고 합니다. 흔히 카메라 셔터로 빛을 주는데 쓰이는 노출(Exposure)과 동의어로 쓰이지만, 반도체 공정에서의 노광은 빛을 선택적으로 조사하는 과정을 말합니다.

3) 웨이퍼에 회로도를 그리는 현상

포토공정(Photo)의 마지막 단계는 현상(Develop)으로, 일반 사진을  현상하는 과정과 동일합니다. 이 공정에서 패턴의 형상이 결정되기 때문에 매우 중요한데요, 현상(Develop) 공정은 웨이퍼에 현상액을 뿌려 가며 노광된 영역과 노광되지 않은 영역을 선택적으로 제거해 회로 패턴을 형성하는 공정입니다.

현상 공정까지 마치게 되면, 모든 포토공정이 끝나게 되는데요, 각종 측정 장비와 광학 현미경, 육안을 통해 패턴이 잘 그려졌는지 세심하고 꼼꼼하게 검사한 한 후, 이를 통과한 웨이퍼만이 다음 공정 단계로 이동하게 됩니다.

지금까지 웨이퍼 표면에 정밀한 회로 패턴을 찍는 포토공정에 대해 알아보았습니다. 다음 시간에는 회로 패턴이 그려진 대로 웨이퍼에 전기가 흐르도록 만드는 과정에 대해 소개해 드릴 예정이니 많이 기대해주세요.

‘8대 공정’ ‘8대공정’

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