반도체는 미세 공정을 통해 집적도를 높이고 반도체의 성능과 전력효율을 높이며 진화해왔습니다. 7나노 이하 미세 공정에 핵심 역할을 할 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선, 파장 13.5nm)는 기존 반도체 노광 공정에 적용되고 있는 불화아르곤(ArF, 파장 193nm)에 비해 파장이 짧습니다. 이를 통해 보다 세밀한 반도체 회로 패턴을 구현을 위해 여러 번 공정을 거쳐야 하는 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 과정을 줄여 성능과 생산성을 향상시킬 수 있습니다.

삼성전자 V1 라인은 5G·AI·자율주행 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 생산의 핵심 기지로서 역할을 할 것입니다. 삼성전자는 이 곳에서 EUV 공정 기반 7나노부터 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 공정 제품까지 차세대 파운드리 제품을 생산해 나감으로써 차세대 반도체 미세공정 시장을 주도해 나갈 예정입니다.

미래의 빛 EUV를 위해 모인 사람들! ‘E-PJT팀’

V1라인 가동을 축하하며, 이를 위해 힘써온 E-P/J팀의 활약도 빼놓을 수 없는데요. E-P/J팀은 V1라인의 성공적인 셋업을 위해 구성된 조직으로 지난해 초 약 50여 명의 임직원들이 화성캠퍼스 11라인 한 켠에 둥지를 틀고 업무를 시작했습니다. 1년이 지난 지금은 팀의 규모도 몇 배 성장하고 V1라인이라는 새로운 보금자리도 갖게 되었는데요. E-P/J팀원들은 세계최초 EUV 라인 가동이 업계에서 가장 주목 받는 프로젝트인 만큼 여느 때보다 완전하고, 또 안전하게 준비하기 위해 노력을 아끼지 않았다고 합니다.

삼성전자 글로벌인프라총괄 E-P/J팀 김병노 님은 V1 라인 가동에 대한 소감을 묻는 질문에 “라인 가동을 준비하며 현장을 살피다 보니 여름 불볕더위에는 온몸이 땀 범벅이라 회의나 식사시간에 다른 부서 분들을 피해 다닐 정도였다. 또 두 달 반 동안은 V1라인 CS FAB내의 임시사무실에서 생활했는데, 화장실 한번 가려면600m를 왕복하는 등 쉽지 않은 순간이 많았다”며, “그래도 한편으로 내 집을 장만한다는 생각에 뿌듯했고, 팀원 모두가 함께 고생해준 덕분에 V1라인이 빠른 시간 내 성공적인 셋업을 할 수 있어 감회가 새롭다”는 말을 전했습니다.

V1 라인은 삼성전자 Foundry사업부의 최첨단 신규 라인이자 지난해 시스템 반도체 산업 강화를 위해 선포한 ‘반도체 비전 2030’의 시작점이라는 데 큰 의미를 지니고 있는데요.

삼성전자 E-PJT팀장 원성근 상무는 “앞으로 Foundry사업부의 미래를 책임져야 한다는 사명감과 무거운 책임감을 동시에 느끼고 있다”며, 7nm에서 5nm, 그리고 3nm로 이어지는 최선단 제품 생산의 전초기지로써 ‘세계 최고의 반도체 생산라인’이라는 타이틀을 이어갈 수 있도록 생산능력 증설과 선단 기술 제품 공급을 위해 지속 노력할 것”을 약속했습니다.

미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 ‘세계 최초의 EUV 전용 라인’

V1라인은 세계 최초의 EUV 전용 라인으로 기존 라인 대비 동강성을 한층 강화해 건설되었습니다. 건설과 설비를 포함한 2020년까지의 누적 투자 금액은 약 60억불 수준인데요. 삼성전자는 이와 같이 꾸준한 연구 개발과 투자를 통해 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 계획입니다.

V1라인에는 생산라인 외에도 임직원들을 위한 복지 시설도 함께 마련돼 눈길을 끌고 있습니다. 각종 운동기구와 인바디 기계가 구비된 피트니스 센터는 물론, 업무 중 쌓인 스트레스를 잠시 내려놓고 재충전과 휴식의 시간을 가질 수 있는 휴게공간까지 알록달록 예쁘게 꾸며졌는데요.

V1라인 임직원들의 든든한 배를 책임지는 사내 카페테리아도 빼놓을 수 없는 자랑거리 중 하나입니다. 넓고 쾌적한 환경을 자랑하는 카페테리아는 각 코너 별로 다양하고 영양 만점의 식사가 제공되고 있어 원하는 메뉴를 선택하는 재미까지 더했습니다.

이렇게 V1라인 임직원들과 건물 내부까지 살짝 들여다봤는데요. EUV전용 생산라인 본격 가동을 통해 새로운 시작을 맞은 삼성전자! 반도체 EUV 공정을 선도해 미세 공정 기술의 한계를 극복해 나갈 삼성전자의 미래에 앞으로도 많은 관심과 응원 부탁 드립니다.

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삼성전자가 화성사업장에 반도체 미래를 이끌 최첨단 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 전용 라인인 ‘V1 라인’을 본격적으로 가동하고 ‘반도체 비전 2030’ 달성에 나섰습니다

삼성전자는 ‘V1 라인’에서 초미세 EUV공정 기반 7나노부터 혁신적인 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 계획입니다.

삼성전자는 최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(Fabless, 반도체 회로 설계) 기업과 협력을 추진하며 모바일부터 HPC(High Performance Computing) 분야까지 파운드리 영역을 확대해 나가고 있습니다.

‘V1 라인’은 5G·AI·자율주행 등 4차 산업혁명 시대를 가속화하는 차세대 반도체 생산 핵심기지로서 역할을 할 것으로 기대됩니다

2020년까지 누적 투자 금액은 약 60억불 수준이며, V1 라인 가동으로 2020년 말 기준 7나노 이하 제품의 생산 규모는 2019년 대비 약 3배 이상 확대될 것으로 예상됩니다.

EUV 노광 기술은 짧은 파장의 극자외선으로 세밀하게 회로를 그릴 수 있어 7나노 이하 초미세공정을 구현할 수 있습니다

이는 급증하는 정보를 처리할 수 있는 고성능 저전력 반도체를 만드는데 필수적인 기술입니다.

또한 EUV 노광 기술을 적용하면 회로를 새기는 작업을 반복하는 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 공정을 줄일 수 있어 성능과 수율이 향상되고, 제품 출시 기간을 단축할 수 있는 장점이 있습니다.

삼성전자는 2019.4월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 SoC 제품을 출하한데 이어, 2019년 하반기부터는 6나노 제품 양산을 시작했습니다.

5나노 공정은 2019년 하반기 제품 설계를 완료했으며, 4나노 공정은 2020년 상반기 공정 개발을 완료하고 하반기에 제품 설계도 마칠 계획입니다.

※ 삼성전자 파운드리 EUV 기반 공정 현황

7나노 : 2019년 상반기 양산 시작

6나노 : 2019년 하반기 양산 시작

5나노 : 2019년 하반기 제품설계 완료

4나노 : 2020년 상반기 공정 개발 완료

시스템반도체 산업 생태계 강화를 위해 ‘SAFE’ 프로그램 등을 통해 국내 중소 팹리스 반도체 업체들과의 상생 협력을 지속 추진하고 있습니다

‘SAFE(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)’는 삼성 파운드리와 에코시스템 파트너, 그리고 고객 사이의 협력을 강화하여, 뛰어난 제품을 효과적으로 설계할 수 있도록 돕는 프로그램입니다.

고객사가 복잡한 반도체 칩 설계의 어려움을 극복하고, 보다 쉽게 설계 검증을 할 수 있도록 자동화 설계 툴과 설계 방법론을 제공하고 있습니다.

삼성전자의 다양한 파운드리 설계 자산(IP, 라이브러리)에 대한 접근성을 높여, 고객 및 파트너사들이 보다 쉽고 빠르게 설계를 할 수 있도록 지원하고 있습니다.

또한, 국내 중소 팹리스 업체의 개발 활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer) 프로그램을 공정당 년 3~4회로 확대 운영함으로써 더 많은 기회를 제공하고자 노력하고 있습니다.

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