산화막

[Oxide Film]

공정에서 발생하는 불순물로부터 실리콘 표면을 보호하는 막.

고온에서 산소를 실리콘 웨이퍼 표면과 화학 반응시켜 생성되는 얇고 균일한 실리콘 산화막(SiO2)이다.

특히 눈에 보이지 않는 미세한 오염물질도 집적회로의 전기적 특성에 영향을 미칠 수 있기 때문에, 공정 시 발생하는 불순물로부터 웨이퍼를 보호하는 산화막의 역할이 매우 중요하다. 또한 산화막은 웨이퍼 위에 그려지는 각 배선이 합선되지 않도록 구분해주는 절연막 역할을 하기도 한다.

일반적으로 산화막 형성 방법에는 여러 가지가 있지만, 고온을 이용한 열산화 공정이 보편적으로 사용된다.

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